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光亮镀银工艺
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产品名称:光亮镀银工艺
发布日期:2006年12月11日

详情描述

EZ-18Silverstar

光亮镀银工艺

该工艺不含金属光亮剂,是适用于电子工业及装饰性工业的氰化镀银工艺,可适用于挂镀及滚镀操作。

一、      特点

1、可镀出任意厚度的银镀层,表面光亮如镜

2、镀层纯度高,延展性极佳,导电性能好,接触电阻小,耐磨

3、分散能力强,光亮区较宽

4、电流密度高,沉积速度快,生产效率明显提高

二、      镀层特征

纯度                     99.9%

硬度                     120-150Vickers

密度                     105mg/µm·dm2

电镀效率                 67mg/Amin

 

三、      设备

镀槽             所有镀槽须以PVCPPPTFE或硬橡胶造或衬里

冷却/加热设备    以不锈钢、钛或PTFE制造

过滤             连续过滤、先用PP滤芯,滤芯使用前须用2%氢氧化钾在

80-90范围内淋洗1小时并冲洗干净

阳极             高纯镀银板或银角

搅拌             建议采用阴极移动搅拌或用过滤器循环溶液,不能用空气搅拌

整流器           0-6V的整流器,波纹系数小于5%

四、      操作条件

 

挂镀

滚镀

 

范围

最佳

范围

最佳

金属银 g/L

20-40

30

20-40

30

游离********* g/L

90-145

120

100-200

150

氢氧化钾 g/L

5-10

7.5

5-10

7.5

PH

12.0-12.5

EZ-18Silverstar A  ml/L

30

EZ-18Silverstar B  ml/L

15

温度 ℃

20-40

25

20

阴极电流密度 A/dm2

0.5-4.0

2

0.5-2.0

1.0

电镀效率 mg/Amin

67

67

1um镀层所需时间

(电流密度2A/dm2时)  s

50

90

银消耗量 g/Ah

4.0

4.0

阳极/阴极比例

2:1

1-2:1

阳极

纯银角(有阳极包)或银板



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